涂層 PVD 它是一種等離子體涂層工藝，涉及物理過程，將另一種材料的薄固體層沉積在表面或部件上，使物體更加耐用。涂層PVD和CVD 不同，CVD 由于涂層是化學氣相沉積， PVD 無需在物體表面發生化學反應，使涂層工作。涂層 PVD 可以用幾種不同的技術來完成。

最常見的技術之一是等離子體濺射沉積。在這個過程中，使用等離子體轟擊材料，導致一些材料蒸發，然后蒸汽沉積到所需的表面。

物理氣相沉積是什么？(PVD)涂料，它們是怎樣生產的？接下來我們一起帶著好奇去探索一二：

首先，PVD 涂層是通過在適當的表面冷凝不同材料的蒸汽而形成的沉積物。金屬、碳、陶瓷、玻璃或聚合物是最常用的材料。在薄金屬薄膜的生產中，蒸發 PVD 等離子體噴涂是一種特殊形式。

對此技術而言，熱等離子體火焰是在某一工作氣體(如空氣、氙氣、氮氣等)中產生的，然后以細粉的形式引入涂層材料。當它撞擊相對較冷的基材表面時，這種能量迅速熔化或蒸發，形成相當厚的薄膜。

等離子體噴涂的一個主要優點是可以在大氣壓下進行，所以不需要真空設備。這個過程也很快。但是，涂層面積往往較小。

所以，等離子體噴涂通常由機器人臂完成，機器人將等離子體噴頭均勻地移動到基片上。通過這種技術，大面積的涂層可以在短時間內完成。等離子體噴涂常用于高溫涂層，如鈦氧化物、氧化鋁或氧化鋁。

另一方面，濺射是基于用原子或離子對目標(即要沉積的材料塊)進行轟擊。濺射可以在復雜的三維表面形成涂層。因此，它掃描電子顯微鏡(SEM)它被廣泛使用。

這是因為SEM樣品必須有導電表面。如果表面電阻很高，那么在放入SEM之前，必須在上面涂一層薄金屬薄膜。這是因為濺射粒子能量很高，但是濺射的原子溫度很低。因此，即使是熱敏材料，如生物樣品，也可以進行物理氣相沉積涂層。

很多現代工業都在其制造和供應線上使用PVD技術，下面是一些依賴PVD的例子：

由于PVD可以用來沉積氮化鉻、氮化鈦等硬涂層，因此對制造高質量、重型工具有很高的要求。比如鉆頭、刀具、螺絲刀。物理氣相沉積涂層的另一個優點是可以保護工具和機械免受腐蝕。

PVD 沉積技術主要用于提高耐磨金屬零件的耐磨性，或者使其具有耐腐蝕性。一般情況下，發動機或底盤的零件都會經過薄膜涂層處理。

PVD不僅可以沉積金、銀、鉑涂層，還可以用來給不銹鋼零件上色，使物品具有精致的美感。后者通常通過在鋼基上涂上黃銅、銀或金來實現。

從生產高度復雜的鏡子到特殊涂層的玻璃，PVD在光學領域的可能應用范圍。玻璃片、透鏡或棱鏡上可以沉積保護、反射或吸收層。這些產品在現代高科技光學中發現了許多用途，從激光元件到光學儀器。

PVD(通常是濺射)通常用于微芯片和薄膜光伏電池兩種半導體應用。在前者中，鉑、鎢或銅等大多數金屬被濺射；有時是多層沉積。在后者中，玻璃或塑料基板上涂覆了稀土、金屬或復合材料。

PVD涂層只是涂覆表面的一種方法。其它方法需要化學物質，這些過程通常需要大量的清潔，而且對環境不友好。PVD涂層比這些方法更安全。

另外，PVD涂層幾乎可以用于任何類型的無機材料。在許多工業和研究應用中，等離子體技術及其處理方法用于表面化學變化。

采用干法清洗、活化、蝕刻、沉積物對材料進行表面處理是一種強大、成本效益高的工藝選擇。能夠執行具有控制可重復性和可擴展設備的工藝選擇，使等離子體處理成為任何制造公司或研究團隊的理想核心競爭力。

在現代工業生產中，等離子體清洗技術已經成為一種常見的表面清洗方法。它能有效徹底地去除物體表面的污垢和雜質，為后續的加工和涂層提供良好的表面質量。

那么，常見的等離子體清洗機使用氧氣、氨氣和氬氣。氧氣，離子質量大，沖擊力強，能有效破壞待清洗物體表面的污垢和雜質，清除，下集我們再一起探究用什么氣體清洗更好，敬請期待，我們一起揭開清洗技術的神秘之處！