1. 等離子在AF噴涂鍍膜工藝中的角色

　　如果說AF噴涂鍍膜工藝是加工企業(yè)購買的核心工藝，那么采用的等離子技術(shù)便是對產(chǎn)品表面改性增加鍍膜品質(zhì)的重要支撐。上料、等離子預(yù)處理、AF霧化噴涂鍍膜、烘烤固化、下料檢驗(yàn)包裝是AF噴涂鍍膜工藝簡單的工藝整線，如果你有看過小編Rogen前面的文章《為什么要使用等離子清洗？等離子處理是怎么開始的？》，你就會知道等離子預(yù)處理是鍍膜品質(zhì)的重要決定因素之一，在整個鍍膜工藝上也得以完美的體現(xiàn)。

2. 等離子在AF噴涂鍍膜工藝中的定義

　　等離子是AF噴涂鍍膜加工企業(yè)為了讓產(chǎn)品獲得更優(yōu)質(zhì)的鍍膜性能而采用的技術(shù)，讓其企業(yè)能夠以低成本獲得高質(zhì)量的產(chǎn)品/服務(wù)使用價值。如今的等離子我們已經(jīng)與AF噴涂機(jī)集成一體化作業(yè)，鍍膜效率更高，作業(yè)性更靈活。

　　我們可以把等離子理解成表面潤濕和改性是材料科學(xué)中用于增強(qiáng)材料特性而不影響整體特性的基本工具，等離子清洗用于通過引入極性官能團(tuán)來改變材料表面化學(xué)性質(zhì)。等離子處理后增加的表面親水性(潤濕性)提高了與防指紋涂層的附著力。鍍膜前對工件進(jìn)行清潔處理，降低工件本身附帶的雜質(zhì)，降低產(chǎn)品污率，提升產(chǎn)品品質(zhì)。

3. AF噴涂鍍膜與等離子的關(guān)系

　　等離子的預(yù)處理性能影響AF噴涂鍍膜的質(zhì)量，鍍膜最終的質(zhì)量性能圍繞水滴角和耐磨性能上下波動(判斷鍍膜品質(zhì))，這是AF噴涂鍍膜工藝中老生常談的概念了。

　　我們可將等離子和AF噴涂鍍膜區(qū)分為一前一后布局，以此排列組合，將等離子預(yù)處理置于前段可以實(shí)現(xiàn)有效增幅，而不能放到AF噴涂鍍膜區(qū)后段，那樣也毫無效果。因其被稱為等離子預(yù)處理，其核心目的是為在沒有開始鍍膜之前，處理需要鍍膜工件，使其達(dá)到最佳鍍膜標(biāo)準(zhǔn)再讓其開始鍍膜，成膜的品質(zhì)也能更好的達(dá)到鍍膜加工指標(biāo)。想要了解更多請查看《AF防指紋噴涂機(jī)為什么要選擇等離子清洗技術(shù)(你知道嗎)?》

　　震儀噴涂鍍膜工藝等離子鍍膜工藝一般采用三種方案：旋轉(zhuǎn)式等離子、線性等離子、雙重式等離子(旋轉(zhuǎn)+線性等離子)，分別為不同需求客戶提供不同的需求解決方案。

4.等離子體的發(fā)生過程

　　在等離子體中，氣體原子被激發(fā)到更高的能量狀態(tài)并被電離。當(dāng)原子和分子“放松”到它們正常的較低能量狀態(tài)時，它們會釋放出光子，從而產(chǎn)生與等離子體相關(guān)的特征“輝光”或光。不同的氣體會產(chǎn)生不同的顏色。例如，氧等離子體發(fā)出淺藍(lán)色。

　　等離子體的活化物質(zhì)包括短波紫外線(真空紫外線，或簡稱 VUV)范圍內(nèi)的原子、分子、離子、電子、自由基、亞穩(wěn)態(tài)和光子。然后該混合物與放置在等離子體中的任何表面相互作用。

　　如果使用的氣體是氧氣，則等離子體是一種有效、經(jīng)濟(jì)、環(huán)保的關(guān)鍵清潔方法。VUV 能量在破壞表面污染物的大多數(shù)有機(jī)鍵(即 C-H、C-C、C=C、C-O 和 C-N)方面非常有效。這有助于分解高分子量污染物。通過等離子體中產(chǎn)生的氧物質(zhì)(O 2 +、O 2 -、O 3、O、O +、O -、電離臭氧、亞穩(wěn)態(tài)激發(fā)氧和自由電子)執(zhí)行第二次清潔動作。這些物質(zhì)與有機(jī)污染物反應(yīng)形成 H 2 O、CO、CO 2, 和較低分子量的碳?xì)浠衔铩＿@些化合物具有相對高的蒸氣壓，并在處理過程中從腔室中排出。由此產(chǎn)生的表面是超干凈的。

5、其他關(guān)于等離子的思考

哪種氣體是等離子最常用的氣體?

　　氮?dú)馔ǔＳ糜诟唠娏鞯牡入x子系統(tǒng)和切割厚度達(dá) 3 英寸的材料。它可以在大多數(shù)材料上產(chǎn)生出色的切割質(zhì)量。當(dāng)需要對厚度達(dá) 1 -1/4 英寸的碳鋼進(jìn)行最高質(zhì)量的機(jī)械化切割時，會使用氧氣。切割面光滑，渣滓容易去除。

等離子是如何清理材料表面污染物的?

　　等離子在光束電離過程中，會產(chǎn)生大量的電離電子，進(jìn)一步產(chǎn)生大量等離子體，可用于啟動去除各種類型的污染物分子，如 NOx、SOx 和 VOCs。

等離子蝕刻有什么作用?

　　等離子蝕刻用于在微觀尺度上“粗糙化”表面。組件的表面通常用反應(yīng)性工藝氣體蝕刻，這會對表面產(chǎn)生化學(xué)和物理效應(yīng)。

等離子體是如何產(chǎn)生的?

　　當(dāng)一個或多個電子從原子中脫離時，就會產(chǎn)生等離子體。一個電離的原子可能會丟失幾個電子(甚至只有一個)，或者它可能會被完全剝奪電子，留下一個原子核(一個或多個質(zhì)子，通常是一些中子)。

等離子蝕刻和干蝕刻一樣嗎?

　　干法蝕刻也稱為等離子蝕刻，是通過用離子轟擊半導(dǎo)體材料的掩模圖案來去除它的過程。通常，離子是活性氣體的等離子體，如氧氣、硼、碳氟化合物、氯和三氯化物。

什么是CF 4等離子?

　　CF 4是一種工藝氣體，經(jīng)常用于通過等離子聚合進(jìn)行的涂層工藝。它用于產(chǎn)生氟化表面，特別是用于脫膜，即產(chǎn)生全氟化表面。通過等離子聚合，PTFE 表面可以由 CF4 聚合物制成。

什么是晶圓等離子清洗?

　　晶圓等離子清洗——等離子清洗傳統(tǒng)上用于去除在晶圓級設(shè)備制造過程中產(chǎn)生的污染物，或在上游組裝過程中產(chǎn)生的污染物。

6、總結(jié)

　　等離子在AF噴涂鍍膜工藝中的屬于核心組件。等離子的應(yīng)用不僅僅是在AF噴涂鍍膜工藝上的應(yīng)用是屬于核心，在很多行業(yè)都是屬于預(yù)處理的絕佳搭配。