氧等離子體是指在等離子體室中也使用氧氣的任何等離子體清潔工藝。氧氣也用于粘合前進行的清潔過程。氧氣也可以與其他氣體結合以蝕刻表面。

　　說氧氣是等離子清洗中最常用的氣體并沒有錯。這主要是由于其廣泛的可用性和低成本。氧等離子體可以通過在等離子體系統上使用氧源來產生。

　　此外，所有可用于等離子蝕刻的系統都可以使用氧氣，因為它通常用于清潔玻璃、聚四氟乙烯和塑料等非金屬表面，還可以增加非金屬表面的潤濕性。

　　等離子清洗成本

　　與其他類型的材料表面清潔系統相比，等離子清潔設備的成本相對便宜。除此之外，設備年度維護的成本也可以忽略不計，這就是為什么等離子清洗多年來顯著增長的原因。

　　等離子清洗被認為是一種有效且易于使用的方法，可以實現比傳統清洗工藝更好的清洗效果。

　　等離子清潔應在需要清潔和可靠表面的地方進行。與傳統的濕化學清洗程序相比，等離子清洗不僅簡單安全，而且對環境友好，而且更有效。

　　等離子清洗應用

　　等離子清洗系統可用于處理前的各種表面清洗目的。它對去除表面氧化和清除表面的礦物殘留物非常有效。

　　它還用于處理塑料和彈性體的表面，以及清潔陶瓷。它還用于清潔玻璃表面以及金屬表面。

　　使用高效的等離子清洗系統無需使用化學溶劑。使用等離子清洗的一個主要好處是整個過程對操作員友好且對環境友好。

　　除此之外，使用等離子清潔系統的運營成本很低，同時提供最高質量的清潔表面。使用等離子清洗系統的另一個好處是它無需使用化學溶劑。

　　因此，使用等離子清洗無需存儲設施或安排溶劑廢物處理。等離子是一種經過驗證且有效的關鍵表面制備方法。